IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统基本介绍 
 
 
 
IQ Aligner®  Automated UV Nanoimprint Lithography System
 
 
IQAligner®   自动化紫外线纳米压印光刻系统
 
 
 
 
 
用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。 
 
 
EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放  的释放机制。
 
 
 
 
 
特征
 
 
用于光学元件的微成型应用
 
 
用于全场纳米压印应用
 
 
三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿
 
 
三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制
 
 
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
 
 
EVG专有的全自动浮雕功能
 
 
抵抗分配站集成
 
 
粘合对准和紫外线粘合功能
 
 
IQ对准器
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
晶圆直径（基板尺寸）150至300毫米
 
 
解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
 
 
支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型
 
 
曝光源： 光源
 
 
对准：≤±0.5微米
 
 
自动分离：支持的
 
 
前处理
 
 
涂层：水坑点胶（可选）
 
 
迷你环境和气候控制
 
 
可选的：
 
 
工作印章制作：支持的；
 
 
 
 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统性能特点 
 

    
 
 
 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统技术参数 
 

    
 
 
 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统使用说明 
 

    
 
 
 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统采购须知