镀膜机-真空镀膜设备基本介绍 
 

   PIS系列纯离子镀膜设备(如图)主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体，其纯离子镀膜源，利用  的电磁过滤系统和电磁扫描系统有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，大幅度提高等离子東流纯度，使膜层 加致密硬度  ，耐磨性和耐腐蚀性也  异。可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多微米的  类金刚石a-C膜层 
 
 
 镀膜机-真空镀膜设备性能特点 
 

  系列设备主要是（集）纯离子镀膜技术（PIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜，使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、  类金刚石膜（TAC、DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。 
 
 
 镀膜机-真空镀膜设备技术参数 
 

    
  
 
 
 镀膜机-真空镀膜设备使用说明 
 

   全自动化工艺控制系统 
 
 
 镀膜机-真空镀膜设备采购须知 
 

   注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-  材料实验室-检测结果