锑化铟靶材 InSb靶材 基本介绍 
 
 
 
锑化铟（InSb）
 
 
1，物理性质：
 
 
原子量：236.578
 
 
立方晶系闪锌矿结构，金属光泽。
 
 
熔点：525℃
 
 
禁带宽度：0.17 eV
 
 
密度：5.78 g/cm3
 
 
迁移率大
 
 
 
 锑化铟靶材 InSb靶材 性能特点 
 

    
 
 
 锑化铟靶材 InSb靶材 技术参数 
 

  可按客户要求定做 
 
 
 锑化铟靶材 InSb靶材 使用说明 
 

  名称符号纯度规格锑化铝AlSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化铝Al2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铝Al2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铝Al2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化铋Bi2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化锑Sb2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化锑Sb2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化锑Sb2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化锑Sb2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化**As2S34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化**As2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化**As2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铋Bi2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铋Bi2Te34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化铋Bi2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铋Bi2Se34N,5N粉末， 块，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化铋Bi2Te34N,5N粉末，块，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料**化镉Cd3As24N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化镉CdSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化镉CdSe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化镉CdS4N,5N块，粉末，颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化镉CdTe4N,5N粉末， 块，颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化铜Cu2S4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化铜CuSe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化**GaAs4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料磷化**GaP4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化**GaSb4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化**Ga2O34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化**GaS4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化**Ga2Se34N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化**GaTe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化锗GeS4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料硒化锗GeSe24N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料碲化锗GeTe4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料铋化铟InBi4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料**化铟InAs4N,5N块， 颗粒，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料锑化铟InSb4N,5N粉末，块， 颗粒，溅射靶材，蒸发镀膜料氧化铟In2O34N,5N粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料磷化铟InP4N,5N块，粉末，溅射靶材，蒸发镀膜料 
 
 
 锑化铟靶材 InSb靶材 采购须知 
 

  1、按照客户需要可以提供材质证明，或者提供**方**，质量**可靠。   
 
2、购买时确认产品规格，纯度，数量及交期。默认中通快递发货！  
 
3、关于客服 我们24小时开通客服热线，欢迎咨询洽谈！  
 
4、关于售后客户的 满意是我们的追求，购买我们的产品，我们会定期回访客户的使用情况，如有问题我们会及时召回！