低温抛光剂配方还原技术研发
价格
¥4000.00
¥3900.00
订货量
1-1
≥2
供货总量
1000个
产地
上海市
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自买家付款之日起1天内发货
探擎(上海)技术服务有限公司

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百销通高级版 资质认证
主营产品:
配方,成分分析,配方还原,技术研发,检测分析,医药包材,金属,技术转让,涂料配方,清洗剂配方,油墨配方,胶黏剂配方
- 产品参数 -
商标 凯思普
型号 d
规格 标准
包装 密封
是否有现货
种类 其它
适用领域 机械
加工定制
材质 水溶性抛光剂
粒度
型号 d
规格 标准
商标 凯思普
包装 密封
- 产品详情 -
 低温抛光剂配方还原技术研发基本介绍
  低温抛光剂配方还原技术研发
 低温抛光剂配方还原技术研发性能特点
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 低温抛光剂配方还原技术研发技术参数
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 低温抛光剂配方还原技术研发使用说明
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 低温抛光剂配方还原技术研发采购须知

 

 低温抛光剂配方还原技术研发

 

低温抛光剂是异于固结磨具,涂附磨具的另一类“磨具”,磨料在分散剂中均匀、游离分散。低温抛光剂可分成研磨液和抛光液。一般研磨液应用于粗磨,低温抛光剂应用于精密磨削。低温抛光剂一般应用于研磨液的下道步骤,化工行业中也把抛光液叫作研磨液或把研磨液叫作抛光液的。

 

低温抛光剂性能稳定、 ,对环境无污染等 。低温抛光剂是一种不含任意 、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,拥有比较好的去油污,防锈,清洗和增光性能质量,并能够使金属制品超过原始的光泽!

“友情提示:此页面价格为定金价格,完整价格以专业报价为准。欢迎随时咨询!”

24小时服务热线:021-64697899 / 189-189-72009

抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主要。抛光表面反应物脱掉硅单晶表面,即解吸步骤使未反应的硅单晶重新 出来的动力学步骤。它是抑制抛光速率的另一个重要步骤。如果化工腐蚀 大于机械抛光 ,则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削 大于化工腐蚀 ,则表面生成高损坏层!

 

探擎科技有限公司专注于低温抛光剂的成分化验工程:

成分含量分析:对产品中的关键配方组成成分经过仪器分析得到有关微观谱图比对谱图数据库定性定量分析出基本成分成分。

辅导研发:在定性定量分析出低温抛光剂配方成份后,若厂家有意向,可在一定程度上辅助企业进行研发

配方组分分析还原:通过分析基本成分配方组成及其含量,分析出低温抛光剂。

不明物分析:就低温抛光剂中的不明物,判断其配方组成成分,辅导厂家定性定量分析出该不明物是怎样生成的。

 

探擎科技有限公司定性定量分析低温抛光剂配方成份的优势:

(1) 的仪器:探擎科技有限公司自行设立试验场地,具有多台 仪器,能多方面定性定量分析产品,得到图谱

(2)专业的定性定量分析技术员:探擎科技有限公司具有致力的分析测试技术员和成功的行业研发研究行业经验,帮助厂家处理化工配方成份问题。

(3)成功的谱图库:探擎科技有限公司积攒了深厚的配方成份分析行业经验,具有比较大的谱图库库。

(4)后期方案:探擎科技有限公司可以参照企业需要,专业提供后期跟踪工艺性方案。

 

 

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