主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑，具有良好的导电性，溅射时工作电流稳定，高阻靶材的底板焊接牢固适用，采用该靶材制作的电阻器，具有阻值集中、稳定性好，有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能，电阻温度系数小等特点。其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的：分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法，产品均具有纯度高，微观组织优异及利用率高等特点靶型有：平面矩形，管形，圆盘形，环形，片状，粉状等，规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。（钽靶题目）射频溅射用钽靶材直流溅射用钽靶材离子镀溅射用钽靶材钽靶材绑定焊接多弧钽靶材钽靶材定做平面钽靶材直径60mm钽靶材中频交流反应溅射用钽靶材非对称脉冲溅射用钽靶材离子束溅射用钽靶材非平衡磁控溅射用钽靶材反应磁控溅射用钽靶材厚5mm钽靶材高致密高均匀钽靶材直径50.8mm钽靶材精车表面钽靶材精车表面钽靶材进口钽靶材磁控溅射钽靶材溅射钽靶材实验用钽靶材低公差钽靶材钽科研用钽靶材金属钽靶材高纯钽靶材圆形钽靶材钽靶材99.95%1高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，锌，镍，锡，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲， ，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。