商标 | Szzzna |
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型号 | Yb2o3-01 |
规格 | 圆、片、块、绑定 |
包装 | 真空包装 |
产量 | 10000 |
是否有现货 | 是 |
加工定制 | 是 |
种类 | 其它 |
特性 | 氧化物 |
用途 | PVD磁控溅射靶材 |
型号 | Yb2o3-01 |
规格 | 圆、片、块、绑定 |
商标 | Szzzna |
包装 | 真空包装 |
高纯氧化镱靶材Yb2O3 科研实验材料 溅射镀膜 蒸发镀膜 半导体 纯度99.999% 尺寸可定制 提供背板绑定服务
Yb2O3,氧化镱靶材
Yb2O3,即氧化镱,是一种高性能的磁控溅射靶材材料,因其物理性能和广泛的应用领域而备受瞩目。以下是对氧化镱靶材的基本介绍、物理性能及其在行业中应用优势的详细阐述。我司专注技术研发与生产,铸就行业精品。公司生产氧化物靶材材料如下:
OXIDES 氧化物 |
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Aluminum Oxide (Al2O3) |
Magnesium Oxide (MgO) |
Antimony Oxide (Sb2O3) |
Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
Barium Titanate (BaTiO3) |
Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
Bismuth Oxide (Bi2O3) |
Molybdenum Oxide (MoO3) |
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11) |
Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
Cerium Oxide (CeO2) |
Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2) |
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) |
Niobium Pentoxide (Nb2O5) |
Chromium Oxide (Cr2O3) |
Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
Chromium Oxide (Eu doped) |
Rare Earth Oxides (La2O3) |
Gallium Oxide (Ga2O3) |
Silicon Dioxide (SiO2) |
Germanium Oxide (GeO3) |
Silicon Monoxide (SiO) |
Hafnium Oxide (HfO2) |
Tantalum Pentoxide (Ta2O5) |
Indium Oxide (In2O3) |
Tin Oxide (SnO2) |
Indium-Tin Oxide (ITO) |
Titanium Dioxide (TiO2) |
Iron Oxide (Fe2O3) |
Tungsten Oxide (WO3) |
Lanthanum Oxide(La2O3) |
Yttrium Oxide (Y2O3) |
Lead Titanate(PbTiO3) |
Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
Lead Zirconate (ZrPbO3) |
Zinc Oxide (ZnO) |
Lithium Niobate (LiNbO3) |
Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) |
Zirconium Oxide (ZrO2) |
氧化镱 是一种白色或略带微绿色的无定形粉末,具有微吸湿性,易从空气中吸收水和二氧化碳。其分子量为394.08,熔点高达2346℃,沸点则达到4070℃。氧化镱的密度约为9.17g/cm3,相对密度较高,使得其在溅射过程中能够有效地传递能量,形成高质量的薄膜。此外,氧化镱的化学性质稳定,不溶于水和冷的酸,但溶于热的稀酸,这一特性使得其在磁控溅射过程中能够保持稳定的化学组成,从而确保镀膜的质量和性能。
1、纯度:氧化镱靶材的纯度对其性能和应用效果至关重要。 的氧化镱靶材通常具有99.9%以上的纯度,甚至可达到99.99%或 。高纯度的氧化镱靶材能够减少杂质对薄膜性能的影响,提高薄膜的质量和稳定性。
2、密度:氧化镱的密度为9.17g/cm3,这一高密度特性使得其在溅射过程中能够有效地传递能量,形成厚、致密的镀膜层。同时,高密度的氧化镱靶材还具有优异的抗磨损和抗腐蚀性能,延长了镀膜的使用寿命。
3、熔点:氧化镱的熔点高达2346℃,是所有稀土氧化物中熔点较高的之一。这一高熔点特性使得氧化镱靶材能够在温度下工作而不融化或变形,特别适合用于需要承受高温的场合。
4、化学成份:氧化镱靶材主要由镱(Yb)和氧(O)两种元素组成,化学式为Yb2O3。其化学性质稳定,不易与其他元素发生化学反应,从而在镀膜过程中能够保持稳定的化学组成。
1、特殊合金与陶瓷材料:氧化镱靶材可用于制备特殊合金和陶瓷电介质,这些材料在航空 、电子工业等领域具有广泛的应用。例如,氧化镱可用于改善Ni-Zn-P合金镀层的物理性能,提高镀层的沉积速率和耐蚀性。
2、光学与电子工业:氧化镱靶材在光学玻璃添加剂和电子工业中具有重要作用。它可用于制造计算机的磁泡材料,使磁泡贮存器具有高速度、大容量、小体积、多功能等特点。此外,氧化镱还可用于荧光粉的生产,为照明和显示技术提供发光材料。
3、高温结构材料:由于氧化镱具有高的熔点和优异的化学稳定性,它可用于制备高温结构陶瓷材料。例如,将氧化镱添加到熔融石英陶瓷中,可以显著提高陶瓷的耐高温性能和机械强度。
4、催化剂与工业发光碳棒:氧化镱还可作为催化剂的组分,用于加速化学反应的进程。同时,它还可用于制造工业发光碳棒,为照明和指示提供稳定的光源。
综上所述,氧化镱靶材作为一种高性能的磁控溅射靶材材料,具有 的物理性能和广泛的应用领域。其高纯度、高密度、高熔点以及稳定的化学性质使得它在特殊合金、陶瓷材料、光学与电子工业、高温结构材料以及催化剂等领域中发挥着重要作用。随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展,氧化镱靶材的需求量将会不断增加,为现代科技的发展提供有力的支持。