国产光刻机单双面光刻机紫外光刻接触式光刻
价格
面议
订货量
≥1
最小起订量
1 台
供货总量
99台
产地
上海市
发货期
自买家付款之日起180天内发货
上海螣芯电子科技有限公司

上海螣芯电子科技有限公司

身份认证
主营产品:
EVG双面光刻机,EVG晶圆键合机,台阶仪,等离子清洗机,共晶贴片机/环氧贴片机,金线键合机,涂胶显影机,光学轮廓仪
- 产品参数 -
商标 螣芯
型号 D8
规格 见包装
包装 木箱
加工方式 OEM加工
生产线数量 1
无铅制造工艺 不提供
免费打样 支持
型号 D8
规格 见包装
商标 螣芯
包装 木箱
分辨率 2um
- 产品详情 -

国产光刻机单双面光刻机紫外光刻接触式光刻

一、主要用途: 本设备广泛应用于进行批量生产的各大、中、小型企业,它主要用于中小规模集 成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产,由于本机找平机构,找平力 小、使本机不仅适合各型基片的曝光,而且也适合易碎片如 化钾、磷化铟等基片的曝 光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

二、 主要性能指标 1、曝光类型:单面,接触式;

2、曝光面积:110×110mm;

3、曝光照度不均匀性:≤±3%;

4、曝光强度:0~30mw/cm2可调;

5、紫外光束角:≤3˚;

6、紫外光中心波长:365nm(也可以配 曝光头实现 g 线、h 线、I 线的组合);

7、紫外光源寿命:≥2 万小时;

8、曝光分辨率:1μm(正胶,胶厚 1.5μm)

9、曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

10、显微镜扫描范围:X: ±15mm Y: ±15mm;

11、对准范围:X、Y±3mm;Q 粗调±15°,细调±3°;

12、套刻精度:1μm;

13、分离量;0~50μm 可调;

14、接触-分离漂移:≤2μm;

15、曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;

16、找平方式:三点式自动找平;

更多资料 上海螣芯电子科技 国产光刻机单双面光刻机紫外光刻接触式光刻

朋友圈二位码

长按二维码,保存至相册。
发送给微信好友。