玻璃胶溶液高剪切胶体磨基本介绍 
 

  固体颗粒分散到一种液体中时，形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时，形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处，表面张力开始发生作用。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下，每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。因此，总是会有产生较小界面的倾向，这阻碍任何乳浊液的形成。 
 
 为了实现互不相溶相的分散，必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量，并保证两相均质混合。分散的长时间稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。 
 
 提供转子-定子机械装置来确保的分散效果、良好的清洁度和较长运行寿命。凭借这几项特点和易维护设计，转子-定子机械装置实现满意的成本/售价比。 
 
 
 玻璃胶溶液高剪切胶体磨性能特点 
 
 
 
颗粒细化到纳米级后，其表面积累了大量的正、负电荷，纳米颗粒的形状极不规则，这样造成了电荷的聚集。纳米颗粒表面原子比例随着纳米粒径的降低而迅速增加，当降至1nm时，表面原子比例高达90%，原子几乎全部集中到颗粒表面，处于高度活化状态，导致表面原子配位数不足和高表面能。纳米颗粒具有很高的化学活性，表现出强烈的表面效应，很容易发生聚集而达到稳定状态，从而团聚发生
 
 

 纳米氧化物极易产生自身的团聚，使得应有的性能难以充分发挥。此外，纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥，还取决于最大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此，纳米氧化物粉体必须均匀分散，充分打开其团聚体，才能发挥其应有的奇异性能。
 
 
 
 玻璃胶溶液高剪切胶体磨技术参数 
 
 
 
以下为型号表供参考：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
型号
 
 
    
 
标准流量
 
L/H
 
 
    
 
输出转速
 
rpm
 
 
    
 
标准线速度
 
m/s
 
 
    
 
马达功率
 
KW
 
 
    
 
进口尺寸
 
 
    
 
出口尺寸
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/4
 
 
    
 
400
 
 
    
 
18000
 
 
    
 
44
 
 
    
 
4
 
 
    
 
DN25
 
 
    
 
DN15
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/5
 
 
    
 
1500
 
 
    
 
10500
 
 
    
 
44
 
 
    
 
11
 
 
    
 
DN40
 
 
    
 
DN32
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/10
 
 
    
 
4000
 
 
    
 
7200
 
 
    
 
44
 
 
    
 
22
 
 
    
 
DN80
 
 
    
 
DN65
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/20
 
 
    
 
10000
 
 
    
 
4900
 
 
    
 
44
 
 
    
 
45
 
 
    
 
DN80
 
 
    
 
DN65
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/30
 
 
    
 
20000
 
 
    
 
2850
 
 
    
 
44
 
 
    
 
90
 
 
    
 
DN150
 
 
    
 
DN125
 
 
   
 
   
 
    
 
XMD2000/50
 
 
    
 
60000
 
 
    
 
1100
 
 
    
 
44
 
 
    
 
160
 
 
    
 
DN200
 
 
    
 
DN150
 
 
   
 
  
 
 
 
 
玻璃胶溶液高剪切胶体磨
 
 
 
 玻璃胶溶液高剪切胶体磨使用说明 
 

  第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。 
 
 第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。 
 
 
 玻璃胶溶液高剪切胶体磨采购须知