疏水型气相二氧化硅三级均质机基本介绍 
 
 
 
疏水性气相二氧化硅一般是经过后处理的产品。可以选用不同型号的气相法或沉淀法二氧化硅作为原料，通过硅烃基基团与合适的化合物反应;这一产品由于表面连接不水解的甲基基团而呈疏水性。
 
 
与原本亲水性二氧化硅不同的是，疏水性气相二氧化硅不能被水所湿润。尽管疏水性气相二氧化硅密度大于水的密度，但它们可以浮于水面上。疏水化后，所吸收的水分的量会比原来亲水性气相化硅大幅降低。
 
 
通过对气相二氧化硅进行表面处理，其技术性能在一些特定的应用领域可以得到优化，可以使之有效改善许多液体聚合物体系的流变特性，尤其是在环氧树脂体系内。
 
 
 
 疏水型气相二氧化硅三级均质机性能特点 
 

    
 
 
 疏水型气相二氧化硅三级均质机技术参数 
 
 
 
以下为型号表供参考：
 
 
 
  
 
   
 
    
 
型号
 
 
    
 
标准流量
 
L/H
 
 
    
 
输出转速
 
rpm
 
 
    
 
标准线速度
 
m/s
 
 
    
 
马达功率
 
KW
 
 
    
 
进口尺寸
 
 
    
 
出口尺寸
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/4
 
 
    
 
300-1000
 
 
    
 
18000
 
 
    
 
44
 
 
    
 
4
 
 
    
 
DN25
 
 
    
 
DN15
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/5
 
 
    
 
1000-1500
 
 
    
 
10500
 
 
    
 
44
 
 
    
 
11
 
 
    
 
DN40
 
 
    
 
DN32
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/10
 
 
    
 
3000
 
 
    
 
7300
 
 
    
 
44
 
 
    
 
22
 
 
    
 
DN50
 
 
    
 
DN50
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/20
 
 
    
 
8000
 
 
    
 
4900
 
 
    
 
44
 
 
    
 
37
 
 
    
 
DN80
 
 
    
 
DN65
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/30
 
 
    
 
20000
 
 
    
 
2850
 
 
    
 
44
 
 
    
 
55
 
 
    
 
DN150
 
 
    
 
DN125
 
 
   
 
   
 
    
 
XRS2000/50
 
 
    
 
40000
 
 
    
 
2000
 
 
    
 
44
 
 
    
 
160
 
 
    
 
DN200
 
 
    
 
DN150
 
 
   
 
  
 
 
 
 
疏水型气相二氧化硅三级均质机
 
 
 
 疏水型气相二氧化硅三级均质机使用说明 
 
 
 
疏水性气相二氧化硅主要有：
 研磨分散：利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同，将研磨料投入加料辊(后辊)和中辊之间的加料沟，二辊以不同速度内向旋转，部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用，通过加料缝，研磨料被分为两部分，一部分附加在加料辊上回到加料沟，另一部分由中辊带到中辊和前辊之间的刮漆缝，在此又一次受到强大的剪切力作用。经过刮漆缝，研磨料又分成两部分，一部分由前辊带到刮处，落入刮漆盘，另一部分再回到加料沟，如此经几次循环，可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低，能耗高，满足不了大生产的需求。
 球磨分散：通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用，使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎，同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。
 砂磨分散：砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料，纳米粉体的预混合浆通过圆筒时，在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用，使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛，溢流排出，出口筛可挡住砂粒，并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度，但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低，能耗高的缺点。
 
 
高速分散机的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是***重要的。根据行业特殊要求，太仓希德在XR2000系列的基础上又开发出XRS2000高速分散机。其剪切速率可以超过100.00 rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力强粒经分布窄。由于能量密度高,无需其他辅助分散设备。