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  蚀刻(etching)是将材料使用 
 化学反应或物理撞击作用而移除的技术。 
 蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。 
 

    可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻 是不可或缺的技术。 
 
 
 
 
  
蚀刻原理
 
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   通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过 
  曝光制版、 
  显影后，将要 
  蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。