6寸8寸单双面光刻机-EVG610/620
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产地
上海市
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上海螣芯电子科技有限公司

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身份认证
主营产品:
EVG双面光刻机,EVG晶圆键合机,台阶仪,等离子清洗机,共晶贴片机/环氧贴片机,金线键合机,涂胶显影机,光学轮廓仪
- 产品参数 -
商标 Evg
型号 Evg610/620/6200/6200
规格 n
包装 Evg
加工方式 OEM加工
生产线数量 10
日加工能力 n
无铅制造工艺 不提供
免费打样 支持
型号 Evg610/620/6200/6200
规格 n
商标 Evg
包装 Evg
晶圆 12寸以内
- 产品详情 -

EVG单面双面半自动光刻机

联系方式:13122976482

QQ图片

610光刻机台QQ图片

EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理 200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在一分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

 

二、应用范围

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统(MEMS硅片凸点、芯片级封装以及化合物半导体涵盖了微电子领域微米或亚微米级线条的芯片的光刻应用。

 

三、主要特点

 

1. 最大化的降低使用者的总体拥有成本;

2. 支持背面对准光刻和键合对准工艺

 

 

 

 

 

 

3. 自动的微米计控制曝光间距

 

 

 

 

 

 

4. 自动契型补偿系统

 

 

 

 

 

 

 

5. 优异的全局光强均匀度

 

 

 

 

 

 

6. 免维护单独气浮工作台

 

 

 

 

 

 

7. 化的占地面积

 

 

 

 

 

 

 

图形化用户界面

 

 

 

 

 

 

9. 完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)

 

 

 

 

 

 

四、技术参数

 

衬底/晶片尺寸(mm)

小片--200mm,150mm*150mm,0.1-10mm 厚度

掩膜板最大尺寸

9'*9'

物镜间距

8-30mm连续可调

对准方式

上部对准,CCD

±0.5um

上部对准,目镜

可选

底部对准

可选

透过式红外对准

可选

键合对准

可选

原位对准校正

可选

工作台

精密微米计

手动

载片台

真空吸盘式,标配4寸,可扩至8寸

接触压力

5-80N可调

曝光

方式

接近式,软、硬、真空接触

分辨率

接触式<0.8um,接近式≥2um

波长

350-450nm,可选200nm

光强均匀性

≤2%

汞灯

350W,500W

纳米压印光刻

硬压头

可选

软压头

可选

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